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金屬薄膜方阻測試儀

金屬薄膜方阻測試儀:金屬薄膜方阻,方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關,其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-06-26
  • 訪  問  量:931
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產品詳情

金屬薄膜方阻,方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關,其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。蒸發(fā)鋁膜、導電漆膜、印制電路板銅箔膜等薄膜狀導電材料,衡量它們厚度的最好方法就是測試它們的方阻。什么是方阻呢?方阻就是方塊電阻,指一個正方形的薄膜導電材料邊到邊“之"間的電阻,如圖一所示,即B邊到C邊的電阻值。方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關,其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。

產品描述:

金屬薄膜方阻測試儀主要利用結光電壓技術非接觸測試具有P/N或N/P結構的樣品的方阻(發(fā)射極薄層方阻)。

特點:

非接觸,非損傷測試,測試速度快,重復性佳,可直接測試產品片。

金屬薄膜方阻測試儀技術參數:

探頭量程10-500Ω/sq
探頭性能動態(tài)重復性靜態(tài)重復性示值誤差
測試條件:采樣率50SPS(20ms),20個點/每次
10-50Ω/sq<2%<0.5%≤±3%
50-200Ω/sq<1%<0.2%≤±3%
200-500Ω/sq<0.6%<0.15%≤±3%
外形尺寸探頭:60mm×30mm×83mm(L×W×H)
控制盒:173×130×55mm
信號采集采樣率:**500SPS
數據接口:RS232 RS485 CAN TCP/IP
傳輸協(xié)議:ModbusRtu/ModbusTcp、用戶自定義SOCKET協(xié)議等

JPV測試數據

實驗數據—相關性

金屬薄膜方阻測試儀

實驗數據—重復性和準確性


樣片1

樣片2

樣片3

樣片4


四探針

SemiLab

九域

四探針

SemiLab

九域

四探針

SemiLab

九域

四探針

SemiLab

九域

1

98.5

99.51

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131.2

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146.6

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131.55

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148.2

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3

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148.1

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Ave

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99.03

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Rsd

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%


0.61%

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-0.20%

-0.25%


0.25%

0.20%


0.82%

-0.15%

說明:

1、四探針重復性較差,探針頭容易出問題導致測試偏差很大

2、Semilab重復性和九域重復性偏差不大

3、準確度偏差都保證在一定的范圍之內

 
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